供气系统的组成因应用场景不同而有所差异，主要分为以下两类：

一、实验室供气系统

气源设备

- 包括气瓶、气体发生器、压缩机等，用于产生和存储气体（如氧气、氮气、氢气）。

输送管道

- 采用耐压材料（如不锈钢或铜管），配备阀门、调压器、过滤器等，确保气体安全输送。

辅助设备

- 包含压力调节器、流量计、干燥器等，用于控制气体压力、流量及净化。

二、半导体工厂（FAB）大宗气体系统

气源与纯化

- 气源通常设置在独立的气体站（Gas Yard），气体在厂房内纯化间（Purifier Room）进行提纯，确保高纯度。

输送与监测

- 通过短管线输送高纯气体，配备品质监测设备，平衡成本与气体品质。

三、其他场景（如航天领域）

加注供气系统：

包含压缩、贮存、推进剂转注等功能，专为火箭等航天设备设计。

总结：供气系统的核心是气源与输送管道，实验室侧重安全与净化，半导体工厂强调高纯度与成本控制，航天领域则需满足特殊工艺需求。